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工業(yè)HiPIMS沉積TiN/CrN多層涂層——超晶格結(jié)構(gòu)&硬度31.9?GPa

在工業(yè)級(jí)HiPIMS系統(tǒng)中,通過交替濺射Ti和Cr靶制備TiN/CrN多層涂層。雙層周期Λ=15?nm時(shí)形成清晰超晶格結(jié)構(gòu),硬度達(dá)31.9?GPa(比單層CrN提高98%),彈性模量394?GPa;Λ=7?nm時(shí)獲得高H/E和H3/E2比值,抗裂耐磨性更優(yōu)

MIS-HiPIMS同步脈沖偏壓調(diào)控CrSiN納米復(fù)合薄膜——硬度20.2?GPa & 磨損率9.1×10?1??m3/N·m

采用MIS-HiPIMS技術(shù),同步脈沖偏壓寬度從100?μs增至500?μs,離子轟擊時(shí)間延長(zhǎng),薄膜由疏松柱狀演變?yōu)橹旅芗{米柱狀結(jié)構(gòu)。硬度從15.6?GPa升至20.2?GPa,磨損率低至9.1×10?1??m3/N·m。