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深圳HiPIMS，低溫ITO沉積的機(jī)會(huì)！
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產(chǎn)品及解決方案
應(yīng)用案例
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關(guān)于新鉑
新鉑科技（東莞）有限公司成立于2020 年底，是新鉑科技的主要生產(chǎn)基地，具有4條組裝生產(chǎn)線和5條檢測調(diào)試線，廠房面積2000+，現(xiàn)有員工20+。是國內(nèi)專業(yè)從事真空鍍膜系統(tǒng)的研發(fā)、制造、銷售為一體的國家級高新技術(shù)企業(yè)。其研發(fā)中心位于東莞市松山湖大學(xué)創(chuàng)新城，其研發(fā)人員均為碩士以上學(xué)歷（其中博士6人），在相關(guān)領(lǐng)域發(fā)表學(xué)術(shù)論文300余篇。
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60%
研發(fā)人員占比
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300+
發(fā)布學(xué)術(shù)論文
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4.5星級
客戶好評
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50+個(gè)
課題合作研發(fā)
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20+個(gè)
定制開發(fā)項(xiàng)目
企業(yè)榮譽(yù)
新聞中心
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深圳HiPIMS金屬填充工藝——納米孔洞超填充&Cu vs Co
采用HiPIMS技術(shù)結(jié)合偏壓，Cu離子分?jǐn)?shù)約50%，可實(shí)現(xiàn)納米孔洞完美填充。DCMS因中性原子方向發(fā)散無法填充；Co雖放電功率更高，但離子到達(dá)基片分?jǐn)?shù)僅34%，填充效果遠(yuǎn)遜于Cu。再濺射與再沉積是超填充的關(guān)鍵機(jī)理...
- 2026-04-30 17:55:12 | →
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深圳真空磁控濺射涂層技術(shù)與真空蒸發(fā)涂層技術(shù)的區(qū)別
真空磁控濺射涂層技術(shù)不同于真空蒸發(fā)涂層技術(shù)。濺射是指核能顆粒轟擊固體表面（目標(biāo)），使固體原子或分子從表面射出的現(xiàn)象。...
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深圳HIPiMS技術(shù)對材料性能有哪些具體影響
HIPiMS技術(shù)（高功率脈沖磁控濺射技術(shù)）對材料性能的影響主要體現(xiàn)在薄膜的微觀結(jié)構(gòu)、致密度、機(jī)械性能以及功能特性等方面。...
- 2025-05-15 14:36:02 | →
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深圳高功率脈沖是多少赫茲
在工業(yè)領(lǐng)域，像高功率脈沖激光加工設(shè)備，為實(shí)現(xiàn)材料切割、焊接或表面處理，其脈沖頻率一般在幾十赫茲到幾千赫茲。例如切割薄金屬板材時(shí)，幾十赫茲的脈沖頻率能在保證切割質(zhì)量的同時(shí)，有效控制熱影響區(qū)域，防止板材因過熱變形。...
- 2025-03-15 10:57:21 | →
深圳管道結(jié)垢難題有解了！DLC薄膜助力石油行業(yè)發(fā)展！
在石油行業(yè)，人們正在努力提高原油回收效率。例如，注入二氧化碳可以將原油的生產(chǎn)效率提高10%~15%。然而，隨著石油產(chǎn)量的增加，也面臨著更多的挑戰(zhàn)，管道腐蝕是其中之一。對于二氧化碳增強(qiáng)采收率（EOR）技術(shù)，生產(chǎn)油水混合物因高壓與二氧化碳過飽和而酸化，...
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深圳真空鍍膜技術(shù)如何實(shí)現(xiàn)多層膜的沉積
真空鍍膜技術(shù)實(shí)現(xiàn)多層膜的沉積主要通過以下幾種方式： 一、交替沉積法...
- 2024-10-31 10:29:45 | →
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深圳真空鍍膜的附著力探討
一般來說，真空鍍膜可以具有較好的附著力。這主要是因?yàn)樵谡婵窄h(huán)境下，鍍膜材料的原子或分子能夠以較高的能量和純凈度沉積在基材表面。與傳統(tǒng)的鍍膜方法相比，真空鍍膜減少了雜質(zhì)和氧化的影響，從而有利于提高鍍膜與基材之間的結(jié)合力。...
- 2024-10-19 15:32:17 | →
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深圳HiPIMS電源可以沉積氧化物嗎
HiPIMS（高功率脈沖磁控濺射，High Power Impulse Magnetron Sputtering）是一種薄膜沉積技術(shù)，它利用高頻脈沖電源產(chǎn)生的高密度等離子體來進(jìn)行材料的濺射沉積。相較于傳統(tǒng)的直流磁控濺射（DCMS），HiPIMS技術(shù)具有更高的離子化率、更好的薄膜質(zhì)量以及更均勻的薄膜厚度等優(yōu)點(diǎn)。因此，HiPIMS技術(shù)在薄膜沉積領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用，尤其是在制備高質(zhì)量、高性能薄膜材料方面表現(xiàn)突出。...
- 2024-09-29 10:22:14 | →