珠三角HiPIMS,低溫ITO沉積的機(jī)會(huì)!
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新鉑科技(東莞)有限公司成立于2020 年底,是新鉑科技的主要生產(chǎn)基地,具有4條組裝生產(chǎn)線和5條檢測(cè)調(diào)試線,廠房面積2000+,現(xiàn)有員工20+。是國(guó)內(nèi)專業(yè)從事真空鍍膜系統(tǒng)的研發(fā)、制造、銷售為一體的國(guó)家級(jí)高新技術(shù)企業(yè)。其研發(fā)中心位于東莞市松山湖大學(xué)創(chuàng)新城,其研發(fā)人員均為碩士以上學(xué)歷(其中博士6人),在相關(guān)領(lǐng)域發(fā)表學(xué)術(shù)論文300余篇。
研發(fā)人員占比
發(fā)布學(xué)術(shù)論文
客戶好評(píng)
課題合作研發(fā)
定制開(kāi)發(fā)項(xiàng)目


在工業(yè)級(jí)HiPIMS系統(tǒng)中,通過(guò)交替濺射Ti和Cr靶制備TiN/CrN多層涂層。雙層周期Λ=15?nm時(shí)形成清晰超晶格結(jié)構(gòu),硬度達(dá)31.9?GPa(比單層CrN提高98%),彈性模量394?GPa;Λ=7?nm時(shí)獲得高H/E和H3/E2比值,抗裂耐磨性更優(yōu)...

采用MIS-HiPIMS技術(shù),同步脈沖偏壓寬度從100?μs增至500?μs,離子轟擊時(shí)間延長(zhǎng),薄膜由疏松柱狀演變?yōu)橹旅芗{米柱狀結(jié)構(gòu)。硬度從15.6?GPa升至20.2?GPa,磨損率低至9.1×10?1??m3/N·m。...


真空磁控濺射涂層技術(shù)不同于真空蒸發(fā)涂層技術(shù)。濺射是指核能顆粒轟擊固體表面(目標(biāo)),使固體原子或分子從表面射出的現(xiàn)象。...




在石油行業(yè),人們正在努力提高原油回收效率。例如,注入二氧化碳可以將原油的生產(chǎn)效率提高10%~15%。然而,隨著石油產(chǎn)量的增加,也面臨著更多的挑戰(zhàn),管道腐蝕是其中之一。對(duì)于二氧化碳增強(qiáng)采收率(EOR)技術(shù),生產(chǎn)油水混合物因高壓與二氧化碳過(guò)飽和而酸化,...


真空鍍膜技術(shù)實(shí)現(xiàn)多層膜的沉積主要通過(guò)以下幾種方式: 一、交替沉積法...

一般來(lái)說(shuō),真空鍍膜可以具有較好的附著力。這主要是因?yàn)樵谡婵窄h(huán)境下,鍍膜材料的原子或分子能夠以較高的能量和純凈度沉積在基材表面。與傳統(tǒng)的鍍膜方法相比,真空鍍膜減少了雜質(zhì)和氧化的影響,從而有利于提高鍍膜與基材之間的結(jié)合力。...

HiPIMS(高功率脈沖磁控濺射,High Power Impulse Magnetron Sputtering)是一種薄膜沉積技術(shù),它利用高頻脈沖電源產(chǎn)生的高密度等離子體來(lái)進(jìn)行材料的濺射沉積。相較于傳統(tǒng)的直流磁控濺射(DCMS),HiPIMS技術(shù)具有更高的離子化率、更好的薄膜質(zhì)量以及更均勻的薄膜厚度等優(yōu)點(diǎn)。因此,HiPIMS技術(shù)在薄膜沉積領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用,尤其是在制備高質(zhì)量、高性能薄膜材料方面表現(xiàn)突出。...