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公司技術(shù)支撐團(tuán)隊(duì)有7篇文章選登《中國表面工程》雜志“高離化磁控技術(shù)與應(yīng)用”專刊

公司技術(shù)支撐團(tuán)隊(duì)有7篇文章選登《中國表面工程》雜志“高離化磁控技術(shù)與應(yīng)用”??蔑@新鉑科技在高功率磁控濺射方面有較多的技術(shù)積累。

濺射鍍膜的原理

自1852年,格洛夫發(fā)現(xiàn)陰極濺射現(xiàn)象,對于濺射技術(shù)的運(yùn)用便逐步發(fā)展起來,從上世紀(jì)80年代至今,磁控濺射技術(shù)在表面工程領(lǐng)域占據(jù)舉足輕重的地位。磁控濺射技術(shù)可制備超硬膜、耐腐蝕摩擦薄膜、超導(dǎo)薄膜、磁性薄膜、光學(xué)薄膜,以及各種具有特殊功能的薄膜,是一種十分有效的薄膜沉積方法。

真空蒸鍍法與濺射鍍膜技術(shù)介紹

真空蒸鍍法與濺射鍍膜技術(shù)不同區(qū)別的介紹
一、真空蒸鍍法
真空蒸鍍是將裝有基片的真空室抽成真空,然后加熱被蒸發(fā)的鍍料,使其原子或分子從表面氣化逸出,形成蒸氣流,入射到基片表面,凝結(jié)形成固體薄膜的技術(shù).

真空鍍膜工藝流程

真空鍍膜是一種常見的表面處理工藝,常用于制造光學(xué)鏡片、太陽能電池板、LED等產(chǎn)品。其主要流程包括以下幾個(gè)步驟:

1. 基材清洗:將待處理的基材表面進(jìn)行清洗,以去除表面的油污、灰塵等雜質(zhì),確保表面干凈。

HiPIMS中不同脈沖波形制備氧化鈮薄膜

在Nb靶氧反應(yīng)濺射時(shí),用合適的HiPIMS脈沖波形可以抑制進(jìn)氣遲滯回線,在沒有氣體控制器下同樣能保證工藝穩(wěn)定性。

新鉑校園版電源上線

HiPIMS-400是新鉑科技針對高校鍍膜實(shí)驗(yàn)需求設(shè)計(jì)的一款高功率脈沖磁控濺射電源??梢詫?shí)現(xiàn)脈沖+直流的組合輸出。

真空弧放電下不同尋常的陰極腐蝕圖案

對于真空弧放電下的弧斑導(dǎo)致的陰極材料的腐蝕研究其實(shí)由來已久。對于真空弧放電下的弧斑主要有兩種,一種是移動較快、較小、較暗的弧斑,主要發(fā)生在較臟的靶面和氧化的靶面;另一種是移動較慢、較大較亮的弧斑,其主要發(fā)生在干凈和惰性氣體放電時(shí)的靶面。

DLC涂層 - 汽車雨刮器的“便衣”

雨刮器是汽車的重要裝置,對于安全行車具有至關(guān)重要的作用。

好的雨刮器必須具備耐熱、耐寒、耐酸堿、抗腐蝕、能貼合擋風(fēng)玻璃、減輕馬達(dá)負(fù)擔(dān)、低噪音、撥水性強(qiáng)、質(zhì)軟不刮傷擋風(fēng)玻璃等特點(diǎn),能使你視野清晰。