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真空鍍膜過程中可能出現(xiàn)哪些缺陷
針孔是真空鍍膜中較為常見的問題。這主要是由于鍍膜材料在沉積過程中，基片表面的微小雜質(zhì)、灰塵或者氣體殘留所導(dǎo)致。例如，在蒸發(fā)鍍膜時，如果基片清洗不夠徹底，表面殘留的顆粒會使鍍膜材料在其周圍無法均勻沉積，形成針孔。
高能脈沖PVD技術(shù)相比傳統(tǒng)PVD有何優(yōu)勢？
致密度更高：高能脈沖PVD在沉積過程中，能夠產(chǎn)生高密度的等離子體，使沉積粒子具有更高的能量，從而在基底上形成更致密的膜層。例如，在制備硬質(zhì)涂層時，其形成的膜層結(jié)構(gòu)更加緊密
高能脈沖PVD技術(shù)可以制備哪些膜層？
如氮化鈦（TiN）膜層。TiN具有高硬度、良好的耐磨性和化學穩(wěn)定性。在刀具涂層領(lǐng)域應(yīng)用廣泛，通過高能脈沖PVD技術(shù)制備的TiN膜層，能夠顯著提高刀具的使用壽命。
高能脈沖 PVD 的基本物理原理是什么？
PVD是在高溫下將靶材蒸發(fā)后沉積到工件表面形成鍍膜的技術(shù)。高能脈沖PVD是PVD技術(shù)的一種改進形式，它的基本物理原理如下：
2024大灣區(qū)高能脈沖PVD高峰論壇在松山湖材料實驗室成功舉辦
12月14日，由松山湖材料實驗室、哈爾濱工業(yè)大學材料結(jié)構(gòu)精密焊接與連接全國重點實驗室以及等離子體放電團隊孵化的高能脈沖PVD電源企業(yè)新鉑科技(東莞)有限公司聯(lián)合主辦的“2024大灣區(qū)高能脈沖PVD高峰論壇”在松山湖材料實驗室會議中心成功舉行。
2024大灣區(qū)高能脈沖PVD論壇在莞舉行
12月14日，“2024大灣區(qū)高能脈沖PVD論壇”在松山湖材料實驗室舉辦。此次論壇由松山湖材料實驗室、材料結(jié)構(gòu)精密焊接與連接全國重點實驗室聯(lián)合舉辦，由高能脈沖PVD電源的領(lǐng)軍企業(yè)新鉑科技東莞有限公司提供支持。
250多名高能脈沖PVD專家齊聚東莞，共探技術(shù)產(chǎn)業(yè)融合路徑
12月14日，來自高校、中國科學院、企業(yè)的250多名代表齊聚東莞“2024大灣區(qū)高能脈沖PVD高峰論壇”，共同研討高能脈沖PVD（真空鍍膜）領(lǐng)域的研究成果和未來發(fā)展趨勢。論壇由松山湖材料實驗室、材料結(jié)構(gòu)精密焊接與連接全國重點實驗室、新鉑科技（東莞）有限公司聯(lián)合舉辦。
2024大灣區(qū)高能脈沖 PVD 高峰論壇成功舉辦，引領(lǐng)行業(yè)前沿發(fā)展
2024年12月14日，備受矚目的高能脈沖PVD高峰論壇在東莞松山湖材料實驗室盛大召開。
本次論壇匯聚了北京大學、清華大學、浙江大學、中科院固體所、華南理工大學、哈爾濱工業(yè)大學、澳門大學、香港城市大學、季華實驗室以及華為、華星光電等250多位國內(nèi)該領(lǐng)域的專家、學者以及企業(yè)代表，共同探討高能脈沖PVD技術(shù)的進展與未來趨勢，為行業(yè)的發(fā)展注入了新的活力與智慧。