18922924269
語言切換 
中文
新鉑科技助力東莞長安鎮(zhèn)真空鍍膜產(chǎn)業(yè)邁向新高地
2025年11月12日，“長安鎮(zhèn)真空鍍膜企業(yè)科技賦能研討會”（科技+產(chǎn)業(yè)方舟系列活動）在東莞市長安國際酒店成功舉行。本次會議由東莞市長安鎮(zhèn)經(jīng)濟發(fā)展局與松山湖材料實驗室聯(lián)合主辦，新鉑科技（東莞）有限公司與平安銀行東莞分行共同協(xié)辦
同步偏壓配合HiPIMS能有什么神奇的化學(xué)反應(yīng)呢？
HiPIMS技術(shù)廣泛用于硬質(zhì)涂層與金屬薄膜沉積，在TiAlN、CrAlTiN等耐磨耐高溫陶瓷涂層制備中表現(xiàn)成熟。該工藝通常需施加?100 V以上的基底偏壓，以增強吸附原子遷移率并借助高能離子引發(fā)次注入效應(yīng)，從而形成致密且力學(xué)性能的薄膜。然而，高偏壓會同步加速工藝氣體離子進入薄膜間隙位置，引入較高的壓縮應(yīng)力，成為該技術(shù)的主要局限。而同步偏壓的出現(xiàn)，讓我們看到了突破希望。
新鉑科技推出“Hipims+arc”一體的電源模式：Himsarc
新鉑科技出席了2025年8月19-22在蘇州召開的30屆國際熱處理和表面工程大會，公司CTO做了“power supply of High power impulse magnetron sputtering and recent applications”的主旨報告，對于國內(nèi)外的嘉賓分享了我們在Hipims研究領(lǐng)域包括電源和應(yīng)用端的新進展。
真空鍍金專用高能脈沖磁控電源
新鉑公司CTO 2025年8月24日赴東莞麻涌鎮(zhèn)豪豐環(huán)保產(chǎn)業(yè)園參加了“電鍍金新技術(shù)”專題研討會，交流了真空鍍金的高能脈沖濺射電源及應(yīng)用技術(shù)。
2024大灣區(qū)高能脈沖PVD高峰論壇在松山湖材料實驗室成功舉辦
12月14日，由松山湖材料實驗室、哈爾濱工業(yè)大學(xué)材料結(jié)構(gòu)精密焊接與連接全國重點實驗室以及等離子體放電團隊孵化的高能脈沖PVD電源企業(yè)新鉑科技(東莞)有限公司聯(lián)合主辦的“2024大灣區(qū)高能脈沖PVD高峰論壇”在松山湖材料實驗室會議中心成功舉行。