新鉑科技推出“Hipims+arc”一體的電源模式：Himsarc

新鉑科技推出“Hipims+arc”一體的電源模式：Himsarc

新鉑科技出席了2025年8月19-22在蘇州召開的30屆國際熱處理和表面工程大會，公司CTO做了“power supply of High power impulse magnetron sputtering and recent applications”的主旨報告，對于國內(nèi)外的嘉賓分享了我們在Hipims研究領(lǐng)域包括電源和應(yīng)用端的新進展。

重點介紹了公司推出的“Hipims+arc”一體的電源Himsarc，在常規(guī)磁控靶上實現(xiàn)磁控和電弧在一個脈沖之內(nèi)的放電。這樣可以進一步調(diào)控離子原子比例以及膜基界面工程和膜層結(jié)構(gòu)優(yōu)化。